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原來(lái)RTP快速退火爐是由這7個(gè)部分組成的！
更新時(shí)間：2022-07-14 點(diǎn)擊次數(shù)：4095
RTP快速退火爐采用的微電腦控制系統(tǒng)，采用PID閉環(huán)控制溫度，可以達(dá)到*的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據(jù)用戶(hù)工藝需求配置多路氣體。目前設(shè)備可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料，離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。本設(shè)備具有快速升降溫、慢速升降溫、和長(zhǎng)工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。
RTP快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。
1.真空腔室：真空腔室是快速退火爐的工作空間，晶圓在這里進(jìn)行快速熱處理。
2.加熱室：加熱室以多個(gè)紅外燈管為加熱元件，以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
3.進(jìn)氣系統(tǒng)：真空腔室尾部有進(jìn)氣孔，控制的進(jìn)氣量用來(lái)滿(mǎn)足一些特殊工藝的氣體需求。
4.真空系統(tǒng)：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥，可以有效確保腔室真空度，同時(shí)避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。
5.溫度控制系統(tǒng)：溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
6.氣冷系統(tǒng)：真空腔室的冷卻是通過(guò)進(jìn)氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體，來(lái)加速冷卻被熱處理的工件，滿(mǎn)足工藝使用要求。
7.水冷系統(tǒng)：水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。
